全球首台!苏大维格大型紫外3D直写光刻设备下线
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集微网消息(文/小如)据苏大维格官方透露,大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000,在苏大维格科技集团下线,并投入工业运行。
iGrapher3000主要用于大基板上的微纳结构形貌的3D光刻,是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台。
图片来源:苏大维格
iGrapher3000此次安装在维业达科技有限公司黄光车间,首个工业应用项目是大尺寸透明导电膜的深槽结构微电路模具,并将用于大面积平板成像、柔性导电器件和全息显示与3D显示研发和产业化应用。
苏大维格主要从事微纳关键技术、高端智能制造设备和功能材料的创新应用,是首批认证的国家高新技术企业。其光刻仪器事业部研制了多种用于MEMS芯片的光刻设备MiScan200(8”~12”)、微纳光学的MicroLab(4”~8”)和超表面、裸眼3D显示、光电子器件研究的纳米光刻设备NanoCrystal(8”~32”)。
2020年1月10日,在国家科技奖励大会上,苏大维格承担的“面向柔性光电子的微纳制造关键技术与应用”成果,获国家科技进步奖二等奖。
iGrapher3000主要用于大基板上的微纳结构形貌的3D光刻,是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台。
图片来源:苏大维格
iGrapher3000此次安装在维业达科技有限公司黄光车间,首个工业应用项目是大尺寸透明导电膜的深槽结构微电路模具,并将用于大面积平板成像、柔性导电器件和全息显示与3D显示研发和产业化应用。
苏大维格主要从事微纳关键技术、高端智能制造设备和功能材料的创新应用,是首批认证的国家高新技术企业。其光刻仪器事业部研制了多种用于MEMS芯片的光刻设备MiScan200(8”~12”)、微纳光学的MicroLab(4”~8”)和超表面、裸眼3D显示、光电子器件研究的纳米光刻设备NanoCrystal(8”~32”)。
2020年1月10日,在国家科技奖励大会上,苏大维格承担的“面向柔性光电子的微纳制造关键技术与应用”成果,获国家科技进步奖二等奖。
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第二种是直写光刻机(Direct Writing Lithography),用于 0.25 微米及以上节点的芯片光掩模版、0.18 微米节点以下的部分光掩模制备(其余节点掩模,用电子束光刻 EBL 制备,约占 25%),如美国应用材料公司(AM)ALTA 光刻机;在显示面板行业,如瑞典 Mycronic 公司,Prexision10 激光直写光刻系统,用于 10 代线光掩模制备,Nikon 大型投影扫描光刻机(FX 系列),用于将光掩模图形扫描光刻到大尺寸基板上,形成 TFT 电路图形。因此,IC 集成电路、显示面板等领域,直写光刻机的作用是将设计数据制备到光刻胶基板上,成为光掩模,用于后道投影光刻复制。
金属掩膜版是OLED蒸镀制程中所用到的金属遮罩的一种,作为OLED生产所需的消耗性核心材料,其结构精细程度直接决定了OLED面板的像素密度。据IHS预计,FMM市场将以38%的年复合增长率从2017年的2.34亿美元增长到2022年的12亿美元。上市公司中,苏大维格曾承担工信部AMOLED掩膜版研发项目,该项目在小开口精密金属镂空掩模版FMM工艺上取得进展;