核心理由一：科技发展靠人才[淘股吧]

蒋筑英你认识吧，记得还有一部电影呢，说的就是他，是中国科学院长春光学精密机械研究所副研究员、第四研究室代主任。1982年6月15日下午，他因劳累过度所引发的疾病去世，终年43岁。
王大珩你知道吧？
陈星旦你认识吧？
王家琪你听过吧？
我来介绍，他们都是中国老一代的中国科学院院士，对光学有着深刻的造诣。
中国芯片归根结底是光刻机问题，是不是？


核心理由二：

长春长光圆辰微电子技术有限公司

·徕卡Q传感器供应商将与中国长光圆辰微电子技术公司联合推出背照式传感器·近日，以色列芯片制造商TowerJazz正式宣布与中国电子元件制造商长光圆辰微电子技术公司建立合作伙伴关系。此前曾有传闻称徕卡Q的传感器就是以色列TowerJazz提供的，而长光圆辰微电子技术公司则一直致力于背照式电子元件的生产和制造。

这次二者联手是希望打造出更加有价格优势的背照式传感器，预计将于2018年中期大量生产并投入市场。


核心理由三：

长光尘芯 （奥普光电子公司）

连续两年被EE Times收录为“全球60家初创半导体公司（Silicon 60）”，2015年初被EE Times评选为“2015年最值得关注的，专注于模拟、MEMS和传感器领域的15家初创公司”。


核心理由四：

中国首套高端光刻机曝光系统隆重亮相IC CHINA 2017

Epolith A1600是我国首台全自主知识产权的90nm节点ArF光刻机曝光光学系统，其研发成功代表我国在高端光刻机曝光光学系统领域成功打破国外技术垄断，标志着我国超精密光学事业实现了从无到有的历史性跨越，书写了中国高端制造的新篇章。

中国研究团队九年出一大科技成果 首套国产高端光刻机成功曝光！

中国首套90纳米高端光刻机，是由两个团队联合研发而成。一个团队是长春光学精密机械和物理研究所、应用光学国家重点实验室，另一个团队是中科院上海光学精密机械研究所。

“九年风云磨一镜” 中国首套高端光刻机曝光！

90纳米光刻机通过验收测试

中国半导体行业协会副理事长、中科院微电子所所长叶甜春25日在IC China高峰论坛上表示，发展装备是为了壮大本土供应链支撑半导体制造行业的发展，国内装备在薄膜、溅镀、刻蚀工艺领域都已经取得突破进展，但目前最前端的光刻机仍是最困难的一个环节。

他指出，中国首套光刻机曝光系统研发，可以说是目前是全世界难度最高的超精度技术，尤其在超精密光学领域, 需要关键技术自主研发。而当前中国已经在此领域取得初步的突破。

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曹健林称，光刻机的研发过程严格按照里程碑节点进行控制与设计，并建立综合设计、加工、镀膜、装配、测试、装调全工艺过程的像质预测模型。2015年7月已经完成装配，其后展开物镜测试台的精度提升工作；2016年9月物镜系统已经交付，整个大硅片都已经进行分布式测量；2017年7月首次曝光成功；2017年10月曝光光学系统在整机环境下通过验收测试